{"id":467,"date":"2018-06-07T10:55:36","date_gmt":"2018-06-07T13:55:36","guid":{"rendered":"http:\/\/sites.usp.br\/lsi\/?p=467"},"modified":"2018-12-19T14:46:29","modified_gmt":"2018-12-19T16:46:29","slug":"gside-grupo-de-engenharia-de-superficies-interfaces-e-deposicao","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/sites.usp.br\/lsi\/gside-grupo-de-engenharia-de-superficies-interfaces-e-deposicao\/","title":{"rendered":"GSIDE – Engenharia de Superf\u00edcies, Interfaces e Deposi\u00e7\u00e3o"},"content":{"rendered":"

Coordenador: Prof. Dr.\u00a0Sebasti\u00e3o Gomes dos Santos Filho<\/strong><\/p>\n

As atividades do GSIDE inserem-se dentro da linha de pesquisa “Dispositivos MOS, Materiais e Processos” e referem-se a:<\/p>\n

Desenvolvimento de t\u00e9cnicas de deposi\u00e7\u00e3o eletroqu\u00edmica;
\nModelos eletroqu\u00edmicos para a deposi\u00e7\u00e3o de metais e simula\u00e7\u00e3o estrutural e qu\u00edmica das termina\u00e7\u00f5es superficiais;
\nEstudos de limpeza para l\u00e2minas de sil\u00edcio visando a obten\u00e7\u00e3o de nanofios e estruturas MOS;
\nMedida das concentra\u00e7\u00f5es superficiais de contaminantes met\u00e1licos e rugosidades atrav\u00e9s da t\u00e9cnica TXRF e espalhamento de luz LASER, respectivamente;
\nObten\u00e7\u00e3o de diel\u00e9tricos de porta de alta constante diel\u00e9trica;
\nSensores para detec\u00e7\u00e3o de esp\u00e9cies qu\u00edmicas utilizando filmes obtidos por deposi\u00e7\u00e3o eletroqu\u00edmica;
\nFabrica\u00e7\u00e3o de pares termoel\u00e9tricos integrados utilizando deposi\u00e7\u00e3o eletroqu\u00edmica;
\nFabrica\u00e7\u00e3o de nanofios para detec\u00e7\u00e3o de hidrog\u00eanio;
\nFabrica\u00e7\u00e3o de diodos Schotky para detec\u00e7\u00e3o de infravermelho;
\nNano-oxida\u00e7\u00e3o do sil\u00edcio e fabrica\u00e7\u00e3o de nanofios para sensoriamento de esp\u00e9cies.
\nAs atividades mencionadas anteriormente j\u00e1 viabilizaram, at\u00e9 o presente momento, diversas publica\u00e7\u00f5es nacionais e internacionais. As pesquisas v\u00eam sendo financiadas com recursos do CNPq, FAPESP e Institutos do Mil\u00eanio. Al\u00e9m da forma\u00e7\u00e3o de recursos humanos, este grupo vem contribuindo decisivamente para a amplia\u00e7\u00e3o da infraestrutura do LSI\/EPUSP, destacando-se com a compra e instala\u00e7\u00e3o de um microsc\u00f3pio de for\u00e7a at\u00f4mica (AFM), a manuten\u00e7\u00e3o dos equipamentos de processamento t\u00e9rmico r\u00e1pido (RTP) e fluoresc\u00eancia de raios X em \u00e2ngulo rasante (TXRF), o desenvolvimento de t\u00e9cnicas de limpeza, oxida\u00e7\u00e3o, siliceta\u00e7\u00e3o e deposi\u00e7\u00e3o; compra de sistemas para caracteriza\u00e7\u00e3o de processos eletroqu\u00edmicos, dentre outros. Ainda, cabe destacar que como resultado do desenvolvimento de processos de eletrodeposi\u00e7\u00e3o em colabora\u00e7\u00e3o a UFSC, foi constru\u00eddo um radi\u00f4metro para aplica\u00e7\u00f5es industriais como parte das atividades de um projeto PADCT.<\/p>\n

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